三星SSIR携手印度科学学院IISc推动半导体研发

IT之家 2 月 9 日消息，三星印度半导体宣布，三星半导体印度研究院（SSIR）与印度科学学院（IISc）将携手推动印度的半导体研发。SSIR 和 IISc 之间的合作将有助于促进片上静电释放 (ESD) 保护领域的研究。官方公告围绕构建 ESD 器件（静电阻抗器）以保护高级 IC 和 SoC 产品中的超高速串行接口展开。

三星 SSIR 表示，与 IISc 的合作将有助于促进半导体创新和开发 ESD 知识。目标是通过研究生级别的培训计划加强能力建设，为学生提供行业实习机会，并鼓励年轻研究人员创业。

与三星半导体印度研究院 (SSIR) 和印度科学学院 (IISc) 之间的协议相关的研究将由 IISc 电子系统工程系 (DESE) 的 Mayank Shrivastava 教授小组施行。IT之家了解到，此次合作的主要目的是减轻由 ESD 故障引起的 IC 和 SoC 芯片故障和返工。

加强研发，为可靠、低功耗和高速运行的 IC 和 SOoC 构建 ESD 将是此次合作的议程。IISc 是世界上为数不多的从事 ESD 器件研究的机构之一。

MSDLab 负责人 Mayank Shrivastava 教授说：“我们一直在与全球半导体行业就先进的纳米电子技术进行广泛合作，包括针对先进 SoC 的 ESD 可靠性威胁的解决方案。我们对 ESD 保护器件进行了基础研究和应用研究，重点是在一系列技术节点上为半导体行业创造实用的解决方案。”